我国哪所研究所成功研制出1.5米扫描干涉场曝光系统?
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发布时间：2024-10-23 21:12
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时间：2024-11-16 11:22
结论：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所的1.5米扫描干涉场曝光系统成功通过国家自然科学基金委员会信息学部的项目验收，标志着我国在米级全息光栅制作技术上实现了重大突破，打破了国际垄断局面。
在8月24日至25日的专项验收中，专家组对项目成果给予了高度评价。项目组不仅完成了研制任务，制造出性能超标的1.5米扫描干涉场曝光系统，而且在项目管理、技术文档和资金使用上均达到规范要求。该系统针对高能激光输出技术、激光惯性约束核聚变以及高端光刻机产业等领域的需求，特别设计用于制作大面积全息光栅，具有500mm×1500mm的曝光能力。
经过7年的持续攻关，项目团队成功解决了长程重载工作台精密定位、曝光干涉场测量及相位锁定等关键技术难题，最终研发出可以制作出650mm×1700mm单体无拼缝全息光栅的扫描干涉场曝光系统。这一重大成果的取得，不仅标志着我国在全息光栅制作技术上实现了自主研发，而且对推动高能激光、可控核聚变和高端光刻等领域的发展具有深远的战略意义，打破了长期以来国际上的技术封锁。
