专利名称：电解隔膜框、支撑结构及应用两者的电解槽专利类型：实用新型专利
发明人：石文堂,叶栋,林建灶,林建平申请号：CN201721101262.2申请日：20170830公开号：CN207376118U公开日：20180518
摘要：本实用新型公开了电解隔膜框、支撑结构及应用两者的电解槽。该电解隔膜框，包括隔膜框框架和隔离栏杆，隔膜框框架为框体结构，隔膜框框架为中空结构，隔膜框框架的四周均设有框孔，框孔将外部与中空结构相连通，隔膜框框架的两侧设有多条平行设置的非金属隔离栏杆，隔膜框框架的顶部两端设有支撑定位部。支撑结构，用于配合支撑电解隔膜框。电解槽，应用该电解隔膜框及支撑结构。本实用新型设计全新结构的电解隔膜框以及电解槽内隔膜框的支撑结构，具有实现了单个电解槽内的若干个隔膜框能够单独取出和更换，并通过在隔膜框中设计安装耐腐蚀栏杆，实现阴极、阳极、隔膜袋之间相互隔离，同时实现阴阳极之间准确定位的效果。
申请人：杭州三耐环保科技股份有限公司
地址：310000 浙江省杭州市建德市洋溪街道新安江路929号
国籍：CN
代理机构：北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)
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